আবরণ জন্য উচ্চ-তাপমাত্রা সিলিকন পাউডার

উচ্চ-তাপমাত্রার সিলিকন পাউডার উচ্চ-তাপমাত্রার অ্যাপ্লিকেশনের জন্য ডিজাইন করা আবরণগুলিতে ফিলার উপাদান হিসাবে ব্যবহার করা যেতে পারে। এই ধরনের পাউডার সাধারণত অতি-বিশুদ্ধ সিলিকন থেকে তৈরি করা হয় এবং এটির রাসায়নিক বৈশিষ্ট্যকে অবনমিত বা হারানো ছাড়াই চরম তাপমাত্রা সহ্য করার জন্য তৈরি করা হয়।

উচ্চ-তাপমাত্রার আবরণে ব্যবহার করা হলে, সিলিকন পাউডার আবরণের তাপীয় স্থিতিশীলতা এবং অক্সিডেশন প্রতিরোধের উন্নতি করতে সাহায্য করতে পারে। এটি আবরণের যান্ত্রিক শক্তি এবং পরিধান প্রতিরোধের উন্নতি করতে পারে, এটি কঠোর শিল্প পরিবেশে ব্যবহারের জন্য আদর্শ করে তোলে।

সিরামিক আবরণ, ইপোক্সি আবরণ এবং পলিউরেথেন আবরণ সহ বিভিন্ন আবরণ সামগ্রীতে সিলিকন পাউডার যোগ করা যেতে পারে। এই আবরণগুলি বিভিন্ন অ্যাপ্লিকেশনে ব্যবহার করা যেতে পারে, যেমন টারবাইন ব্লেড, নিষ্কাশন ব্যবস্থা এবং শিল্প ওভেন।

রাসায়নিক সূত্র: Si

আণবিক ওজন: 28.09 গ্রাম/মোল

বিশুদ্ধতা: 99.9 শতাংশ বা তার বেশি

চেহারা: ধূসর-কালো পাউডার

কণার আকার: 1-10 মাইক্রন বা কাস্টমাইজড

সারফেস এরিয়া: 10-50 m2/g

ঘনত্ব: 2.33 গ্রাম/সেমি3

গলনাঙ্ক: 1,414 ডিগ্রী

ফুটন্ত পয়েন্ট: 3,265 ডিগ্রী

তাপ পরিবাহিতা: 149 W/mK

বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা: 10^-4 S/cm

-200 জাল: গড় কণার আকার প্রায় 5-10 মাইক্রন, এবং 200 জালের সিভিং রেট 98 শতাংশের বেশি। এটি প্রসাধনী, আবরণ এবং অন্যান্য শিল্পে ব্যবহৃত হয়।

-325 জাল: গড় কণার আকার প্রায় 1-5 মাইক্রন, এবং 325 মেশ স্ক্রীনিংয়ের পাসের হার 98 শতাংশের বেশি। এটি প্লাস্টিক, রাবার এবং অন্যান্য শিল্পে ব্যবহৃত হয়।

{{0}} জাল: গড় কণার আকার প্রায় 0৷{2}} মাইক্রন, এবং 800 জালের সিভিং পাস রেট 98 শতাংশের বেশি। এটি অর্ধপরিবাহী, উচ্চ-তাপমাত্রা আবরণ এবং অন্যান্য শিল্পে ব্যবহৃত হয়।

{{0}} জাল: গড় কণার আকার প্রায় 0৷{2}}.5 মাইক্রন, এবং 1000 জালের সিভিং পাস রেট 98 শতাংশের বেশি। এটি উচ্চ-শেষ সিরামিক, আবরণ এবং অন্যান্য শিল্পে ব্যবহৃত হয়।

{{0}} জাল: গড় কণার আকার প্রায় 0৷{2}}.1 মাইক্রন, এবং 3000 জালের সিভিং পাস রেট 98 শতাংশের বেশি। এটি ইলেকট্রনিক উপকরণ, ন্যানোম্যাটেরিয়াল এবং অন্যান্য শিল্পে ব্যবহৃত হয়।